显微分光膜厚仪是一种基于光的干涉和分光原理的高精度测量仪器，主要用于非破坏性、非接触地测量薄膜、晶片、光学材料及多层膜的厚度，并分析其光学常数(如折射率、消光系数)。
通过显微光谱法测量微小区域的光谱反射率，当光线在薄膜前后表面多次反射形成干涉条纹时，分光技术将干涉条纹分解为不同波长的光谱，并测量其强度分布，通过算法计算膜厚及光学参数。
显微分光膜厚仪通过光的干涉与分光原理实现非破坏性、非接触式测量。当光线照射到薄膜表面时，在薄膜前后表面多次反射形成干涉条纹，分光技术将这些条纹分解为不同波长的光谱，通过测量光谱强度分布并结合算法计算，可准确获取薄膜厚度(1nm-35μm)、折射率(n)、消光系数(k)等参数。
通常由光学系统、检测系统、控制系统和样品台等部分组成。光学系统包括光源、分光器、反射物镜等，用于产生和传输光线，并将光线聚焦到样品表面；检测系统一般由探测器等组成，用于检测反射或透射光线的强度；控制系统负责仪器的操作和数据处理；样品台用于放置样品，并可实现样品的移动和定位。
使用注意事项
环境控制：避免阳光直射、高温潮湿环境，防止光学系统受潮或污染。
校准与维护：定期使用标准样品校准，清洁光学部件以延长寿命。
样品处理：测量前确保样品表面平整，避免粗糙度影响反射率数据。
数据安全：选择支持数据存储和传输(如USB、蓝牙)的型号，便于后续分析。
更新时间：2025-09-03
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